반도체 장비업체 APTC, 상장 코 앞…"중국 법인 매출 내년 본격화"

↑ 최우형 APTC 사장이 10일 서울 영등포구 여의도동에서 열린 기자간담회에서 주요 사업안에 대해 발표하고 있다. [사진 = 김제이 기자]

코스닥에 상장 예정인 반도체 식각장비 업체 APTC 중국 현지 법인이 내년부터 본격적으로 활동에 나선다.
APTC(에이티피씨)는 10일 서울 영등포구 여의도동에서 기자간담회를 열고 상장 후 계획을 밝혔다. 이날 간담회에는 최우형 APTC 사장이 참석해 주요 사업안에 대해 발표했다.
에이티피씨는 메모리 반도체 핵심 전공정 중 하나인 식각장비를 개발 및 생산·판매하는 반도체 식각장비 전문기업이다. 오는 23일 코스닥 시장에 입성한다.
최우형 사장은 이날 "에이피티씨의 식각 장비는 램리서치, 어플라이드머트리얼즈 등 글로벌 독과점 기업의 외국산 장비를 대체 중"이라면서 "주력 제품인 300mm 실리콘 식각장비(폴리 에처)는 글로벌 반도체 소자업체인 SK하이닉스에 다량 납품돼 현재 반도체 양산 라인에 사용되고 있다"고 설명했다.
에이피티씨는 SK하이닉스와의 상생 협력을 통해 위기를 타개하며 급속 성장한 기업이다. 에이티피씨는 지난해 SK하이닉스의 기술혁신 기업으로 선정되면서 SK하이닉스향 매출로 이익을 끌어올렸다. 회사가 경영 위기를 겪었던 2015년 18억원의 연간 영업손실을 냈던 회사는 2016년 흑자전환에 성공 뒤 지난해에는 127억원의 영업이익을 기록했다. 올해는 1분기에만 지난해 전체 영입이익 중 61%에 달하는 78억원의 이익을 냈다.
최 사장은 "SK하이닉스 중국 우시 법인뿐 아니라 대만, 미국 현지법인을 설립, 주요 고객사 레퍼런스를 바탕으로 신규 고객을 창출해 나갈 계획이다.
2002년 설립된 에이피티씨는 반도체 전공정 장비인 식각장비 제조업체로서 관련한 원천기술과 특허를 다수 보유 중이다. 에이피티씨가 특허를 보유하고 있는 적응결합형 플라즈마 소스(ACP Source)는 현재 300mm 반도체 식각장비에 적용돼 성능과 가격 경쟁력을 입증하고 있다.
에이피티씨는 현재 주력 제품인 300mm 폴리 식각장비 Leo NK I-C보다 더 향상된 Leo NK Ⅱ 개발을 올해 연말까지 완료를 목표로 하고 있다. 이후 Leo NK Ⅲ에 대한 개발을 진행하여 내년 연말까지 개발을 마칠 계획이다.
그는 "Leo NK I-C 식각장비는 현재 매출의 대부분을 차지하고 있으며 앞으로도 디램(DRAM) 회로선폭 미세화, 낸드(NAND)의 고적층화 및 고객사의 신규 공장 증설 등으로 새로운 식각장비는 수요가 지속적으로 확대되고 있어 에이피티씨의 매출은 매년 큰 폭의 성장이 가능할 것으로 전망한다"고 말했다.
실제로 에이피티씨의 최근 3년간의 매출은 2015년 44억원, 2016년 379억원, 2017년 411억 등 지속적인 매출이 늘었다. 올해 1분기 현재 203억원의 매출을 달성했고 자체 잠정 결산한 결과 반기 누적 매출이 약 410억원으로 집계돼 이미 작년 매출을 달성한 것으로 나타났다.
에이피티씨는 올해 연말부터 SK하이닉스 중국 우시 법인에 장비를 공급하고 있다. 우선적으로 SK하이닉스 중국 우시 법인과의 장비공급을 통해 매출 지역 다변화를 꾀할 방침이다. 이후 중국, 대만, 미국 등 매출처의 다양성을 확보할 전략이다.
최 사장은 "현재 중국 현지의 양산 라인에 사용되고 있으며 내년부터 본격적으로 실적에 반영될 수 있다"고 말했다.
에이피티씨는 오는 13~14일 일반 청약을 거쳐 오는 23일 상장할 예정이다. 상장 주관사는 대신증권이다. 희망공모가밴드는 1만1500~1만3000원으로 공모금액은 265억~299억원이 될 전망이다. 공모금액의 대부분은 생산설비 증설을 위한 신 공장 구축에 사용될 예정이다.
[디지털뉴스국 김제이 기자]