↑ 반도체 세정장비 [검찰 제공] |
26일 서울중앙지검 형사12부(부장검사 조상원)는 "SK하이닉스 D램 반도체 제조 및 세정 관련 국가핵심기술을 중국 경쟁업체에 유출한 반도체 장비업체 D사 연구소장 김모씨, 영업그룹장 윤모씨 등 2명을 산업기술보호법위반, 부정경쟁방지법위반(영업비밀국외누설 등) 등 혐의로 구속 기소했다"고 밝혔다. 삼성전자 자회사인 세메스의 반도체 세정장비 도면을 입수해 중국 수출용 반도체 장비 개발에 사용한 D사 공정그룹장 박모씨 등 3명도 산업기술보호법위반 혐의 등으로 구속 기소됐다. 범행에 가담한 D사 부사장, 품질그룹장과 세메스 전직 직원 등 12명도 불구속 기소됐다.
김씨 등은 2019년 8월부터 지난해 6월까지 SK하이닉스와 협업관계 중에 알게된 HKMG(High-K Metal Gate) 반도체 제조기술과 반도체 세정 레시피 등을 중국 반도체업체 등에 유출했다. HKMG는 D램 반도체 성능을 향상시키기 위해 전도율이 높은 신소재를 사용한 최신 반도체 제조 공정 기술이다. 윤씨 등은 2018년 8월부터 지난해 6월까지 경쟁업체인 세메스의 전직 직원을 통해 세메스가 최초 개발한 반도체 세정장비 도면을 입수해 중국 수출용 반도체 장비를 개발에 사용했다. 이들이 중국에 유출한 반도체 관련 기술 등은 10나노급 D램 반도체 제조 공정의 핵심 기술들이다.
검찰은 국가정보원 산하 산업기밀보호센터로부
[류영욱 기자]
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