그동안 개발이 불가능한 것으로 여겨지던 차세대 나노 반도체 공정 기술을 국내 연구진이 세계 최초로 개발했습니다.
윤호진 기자가 보도합니다.
【 기자 】
반도체나 디스플레이에 적용되는 나노결정 도핑 기술.
이 기술은 반도체에 전류가 흐를 수 있도록 하는 공법입니다.
자연 상태의 핵입자에 망간 같은 불순물을 집어넣으면 핵입자는 전자기적 성질을 띠게 되고 반도체 소재로 쓸 수 있게 됩니다.
핵입자의 크기는 0.4~0.7나노미터 정도.
나노입자보다도 작기 때문에 학계에선 지난 10년간 이 도핑 기술이 실현 불가능하다고 여겼습니다.
그러나, 서울대 연구진이 세계 최초로 성공했습니다.
▶ 인터뷰 : 유정호 / 서울대 화학생물공학 연구원
- "기존의 학계에서는 '크기가 작을수록 도핑이 안 될 것이다' 그런 게 정설이었는데, 저희는 이번에 특정한 핵입자는 매우 크기가 작음에도 불구하고 도핑이 성공적으로 이루어질 수 있다는 것을 발견하였고…."
기술이 상용화되면 반도체의 집적률을 획기적으로 높일 수 있고, 태양전지나 LED에도 활용할 수 있습니다.
▶ 인터뷰 : 현택환 / 서울대 화학생물공학 교수
- "망간 이온이 반도체에 도핑 된 나노물질 같은 경우는 차세대 메모리 소재로 각광받고 있는 자성 반도체 소재로 이용될 수 있을 것으로 기대됩니다."
이번 연구 결과는 나노분야의 세계적인 권위지인 '네이처 매터리얼즈' 인터넷판에 실렸습니다.
MBN뉴스 윤호진입니다.
< Copyright ⓒ mbn. 무단전재 및 재배포 금지 >