국내 연구진이 전자회로 선 폭이 1나노미터에 불과한 실리콘 반도체소자를 제작할 수 있는 나노선 물성 제어기술을 처음으로 개발
연세대 염한웅 교수팀은 1나노미터 금속나노선을 실리콘 기판 위에 직접 대량으로 성장시키고 이를 소자에 응용할 수 있도록 전기적 특성을 제어하는 도핑기술을 개발했다고 밝혔습니다.
이 연구결과는 물리학 분야 최고 권위지 '피지컬 리뷰 레터스'에 게재됩니다.
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국내 연구진이 전자회로 선 폭이 1나노미터에 불과한 실리콘 반도체소자를 제작할 수 있는 나노선 물성 제어기술을 처음으로 개발
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