↑ [사진 제공 = 에스엔에스텍] |
에스앤에스텍은 24일 서울 여의도 한국거래소에서 기관투자자와 애널리스트를 대상으로 블랭크마스크 사업 강화 및 기업 현황에 대한 설명회를 가졌다.
에스앤에스텍은 올해 삼성전자 시스템 LSI 사업 강화, SK하이닉스 2세대 10㎚ D램 양산계획 등 전방산업 호조와 중국의 LCD·OLED 생산라인 확장으로 포토마스크 원재료인 블랭크마스크 수요 증가가 예상된다며 이에 대응할 수 있는 기술력과 생산시설을 확보했다고 밝혔다.
이어 폴더블, 전장, VR 등 미래 산업 분야에서 OLED 수요 증가에 따라 블랭크마스크 수요도 증가할 것이어서 올해에도 실적 성장을 지속할 것이라고 설명했다.
에스앤에스텍은 지난해 매출액 610억원, 영업이익 51억원을 기록했다. 전년 대비 각각 13%, 112% 증가한 수준으로 창사 이래 최대 실적이다.
에스앤에스텍은 미래 수익 사업으로 아직 세계적으로 상용화되지 않은 EUV용 펠리클 개발에 박차를 가해 EUV 펠리클 시장을 선점하겠다는 계획이다. 이에 앞서 에스앤에스텍은 지난해 9월 미국 EUVL 심포지움에서 개발 중인 경쟁사 대비 우월한 수준인 투과
에스앤에스텍 관계자는 "반도체 기술 고도화에 따라 미세공정 기술 확보와 EUV용 펠리클 개발을 통해 새로운 도약의 발판을 마련하겠다"고 말했다.
[디지털뉴스국 김경택 기자]
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