삼성전자 반도체 시설 투자 올해도 1위

삼성전자가 지난해에 이어 올해도 글로벌 반도체 업체 중 가장 많은 시설 투자를 집행할 것으로 전망된다.
7일 시장조사기관 IC인사이츠에 따르면 삼성전자 반도체 부문의 올해 시설투자 전망치는 125억 달러(약 14조5000억원)에 이를 전망이다. 이는 작년(113억 달러)보다 11% 늘어난 수준이다. 삼성전자는 지난해 'D램 시장 약세'를 이유로 시설투자 규모를 전년 대비 13% 가량 줄였지만 D램 가격의 회복과 함께 3D 낸드에 대한 투자가 늘면서 올해 전체적인 투자 규모를 늘릴 것으로 보인다. 삼성전자는 경기도 평택에 세계 최대 규모인 반도체단지를 짓고 있다. 올해부터 중반부터 평택에서도 낸드플래시 메모리를 양산할 계획이다. 삼성전자 관계자는 "올해도 투자를 확대하기 위해 채용 인원을 늘리기로 했지만 올해 시설투자 규모는 확정하지 못했다"고 밝혔다.
SK하이닉스의 시설투자 규모는 세계 4위로 올해 60억달러(약 7조원)를 집행할 방침이다. 이 회사는 올해 D램 투자는 줄이고 3D 낸드 생산량 확대를 위한 투자는 늘리기로 했다. 올해 시설투자 증가분은 경기도 이천 공장 M14의 클린룸 건설과 관련 인프라에 쓰인다.
세계 최대 마이크로프로세서 제조 기업인 인텔도 시설투자에서도 공격적인 행보를 보이고 있다. 인텔의 올해 시설투자액은 120억달러(약 14조원)로 삼성전자에 이어 2번째로 많다. 세계 최대 반도체 수탁생산(파운드리) 업체인 대만의 TSMC는 작년보다 2% 줄어든 100억달러(약 11조6000억원)를 투자할 것으로 예상된다.
[이동인 기자]