삼성전자, 지난해 시설투자 26조9000억원 집행

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삼성전자는 2019년 시설투자 집행규모가 약 26조9000억원에 달한다고 30일 밝혔다. 사업별로 반도체 22조6000억원, 디스플레이 2조2000억원 등이다.
2018년 대비 반도체는 메모리의 경우 지난해 공정 전환에 집중하면서 투자가 감소됐고, 파운드리는 EUV 7나노 등 미세 공정을 적용하기 위한 설비 증설로 투자가 늘었다.
디스플레이의 경우는 2018년 대비 중소형 A4라인 투자가 끝나 투자가 감소했다. 올해 투자는 수요 변동 상황에 맞춰 탄력적으로 대응할 계획이다.
메모리의 경우 중장기 수요 대응을 위한 인프라 투자는 지속하고, 설비투자는 시황 회복 추이에 맞춰 대응할 방침이다. 더불어 시스템반도체와 디스플레이, AI, 5G와 같은 미래 성장 사업의 중장기 경쟁력 강화를 위한 투자는 계획대로 진행할 예정이다.
[디지털뉴스국 김승한 기자]